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      200系列光刻机 —— TFT曝光


      SSB225

      SSB245

      SSB260

      SSB200系列投影光刻机采用先进的投影光刻机平台技术,专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造,可应用于2.5代~6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,显著降低用户使用成本。
         产品特征

      ● 高精度,分辨率可达1.5μm

      ● 支持小Mask,可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造

      ● 具备智能化校准及诊断功能,方便设备参数校调及用户周期性维护

      ● 快速灵活的客制化服务

         主要技术参数

       型号

      分辨率

       套刻精度

       基板尺寸

      SSB225/10

      2μm L/S

      0.6μm

      370mm×470mm
      500mm×500mm

      SSB225/20

      1.5μm L/S

      0.5μm

      370mm×470mm
      500mm×500mm

       SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
       SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
       SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
      1500mm×1850mm
       SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
      1500mm×1850mm