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        200系列光刻机 —— TFT曝光


        SSB225

        SSB245

        SSB260

        SSB200系列投影光刻机采用先进的投影光刻机平台技术,专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造,可应用于2.5代~6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,显著降低用户使用成本。
           产品特征

        ● 高精度,分辨率可达1.5μm

        ● 支持小Mask,可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造

        ● 具备智能化校准及诊断功能,方便设备参数校调及用户周期性维护

           主要技术参数

        型号

        分辨率

        套刻精度

        基板尺寸

        SSB225/10

        2μm L/S

        0.6μm

        370mm×470mm
        500mm×500mm

        SSB225/20

        1.5μm L/S

        0.5μm

        370mm×470mm
        500mm×500mm

         SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
         SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
         SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
        1500mm×1850mm
         SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
        1500mm×1850mm